IN FOCUSが運営するクリエイティブスタジオ「CONTRAST」にて、3月4日（土）から3月19日（日）まで、東京を拠点に活動するフランス人ビジュアルアーティスト、ルイジ・オノラ氏の個展「Absences」を開催する。
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■開催概要

オノラ氏は武蔵野美術大学にて彫刻を学んだ後、現在は同大学で講師として務めながら、オブジェと3DCGをメディアとしたアートの研鑽に努め、コンピューターグラフィックを駆使して新たな彫刻のフォルムや動き、手法を探求。「現実と仮想」、「オブジェとデータ」、「美とある種の不気味さ」と様々な要素を組み合わせ、相互にリンクさせたインスタレーション、彫刻、映像作品を制作している。

Apple、Adidas、L’Oréal、The New York Times等のブランドや、Moses Sumney、Son Lux’s Ian Chang、Micka Luna、Variérasといったミュージシャンとの仕事でも知られている。

同展では、プリント、AR （拡張現実）、映像という異なる3つのメディアで構成されたデジタルスカルプチャーの新作シリーズを発表する。プリントやARを通して、実際には存在しないデジタルスカルプチャーの体感を可能とし、映像作品ではそのフォルムが形成されていく一連の変化により、具象的なトルソーが溶けては消え、トランスフォームする過程から、「Absences （不在）」の概念を探求する。また、会場ではARマーカーのプリント販売も行い、別空間で読み込むことにより、空間と身体の関係にも問いを投げかける。

これまでSNSを中心に活動してきたオノラ氏の作品とリアルに対峙できる貴重な展示。現実に存在するデジタルスカルプチャーによって埋め尽くされた「Absences （不在）」な世界を体感できる。

ルイジ・オノラ氏
https://www.instagram.com/luigihonorat/

展覧会情報
会期：3/4（土）～3/19（日）
月～金：15:00～20:00
土・日：13:00～20:00
休館日：火曜
入場料：無料
会場：CONTRAST
住所：東京都渋谷区富ヶ谷1-49-4-1F & B1F
最寄駅：東京メトロ千代田線「代々木公園」駅1番出口より徒歩1分
小田急小田原線「代々木八幡」駅南口より徒歩2分
https://contrast-tokyo.com/