巨大3Dデータの描画速度を最大5倍高速化、描画性能を格段に向上した「XVL Studio Ver.13.1」を出荷開始（ラティス・テクノロジー）

ラティス・テクノロジーは、大容量データに対する描画性能を格段に向上したDMU（デジタルモックアップ）製品「XVL Studio」の最新版Ver.13.1（以下、新バージョン）をリリースした。
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■ 製品概要

ラティスの軽量3Dデータ「XVL」は、世界トップ水準の基本性能を持つことから、そのソリューションは自動車、航空機、造船や列車といった大容量3Dデータを扱う製造業で幅広く採用されている。これらの業界では、3D設計が定着し、大量の部品を精密な3Dモデルで表現するようになったため、デジタルモデルを利用した設計や工程の検証おいて、さらなる巨大データをストレスなく扱える描画パフォーマンスが求められている。そこで新バージョンでは、軽量3DフォーマットXVLの最新形式U-XVL Ver.11（*U-XVL Ver.11.0は、10月22日現在、新バージョンでのみ表示およびファイル保存時に生成可能）に対応し、最大5倍の描画性能を実現した（*ラティス調べ。前バージョンとの比較）。これは特にCADで数GB、XVL形式では数百MB程度の大容量データで有効だ。例えば、グラフィックボードのnVIDIA Quadro2000搭載端末であれば最大で約5倍、Intel HD Grachics 2000以降の搭載端末であれば最大で約4倍の高速な描画速度を実現する。これにより、巨大な3Dデータを利用した設計のデザインレビューや、組み付け工程の検証といった作業性を格段に向上させることが可能だ。ラティスでは、最新の「U-XVL Ver.11」にXVL製品群を順次対応させ、さらなる機能と性能向上を実現することで、大規模なアセンブリ産業の設計と製造の効率化に貢献する考えだという。